產品名稱：半導體光刻膠/LCD 光刻膠/PCB 光刻膠-齊岳廠家

產品描述：

半導體光刻膠/LCD 光刻膠/PCB 光刻膠-齊岳廠家 ? ??光刻是將電路圖形由掩膜版轉移到硅片上，為后續刻蝕工藝做準備的過程。光刻是 IC 制造過程中耗時較長、 難度較大的工藝之一，耗時占 IC 制造 50%，成本占 IC 制造 1/3。在一次芯片制造中，往往要對硅片進行上十次 光刻，其主要流程為清洗、涂膠、前烘、對準、曝光、后烘、顯影、刻蝕、光刻膠剝離、離子注入等。在光刻 過程中，需在硅片上涂一層光刻膠，經紫外線曝光后，光刻膠的化學性質發生變化，通過顯影后，被曝光的光刻膠將被，電路圖形由掩膜版轉移到光刻膠上，再經過刻蝕工藝，實現電路圖形由光刻膠轉移到硅片上。 ? 光刻膠是光刻工藝較重要的耗材，光刻膠的質量對光刻精度至關重要。光刻膠是指通過紫外光、準分子激 光、電子束、離子束、X 射線等光源的照射或輻射，其溶解度發生變化的刻材料。由于光刻膠具有光化學 敏感性和防腐蝕的保護作用，因此經過曝光、顯影、刻蝕等工藝，可以將微細電路圖形從掩膜版轉移到硅片。雖然光刻膠制造成本低，但是壁壘高，，難以保存。 光刻過程示意圖 ? 光刻膠是光刻工藝較重要的耗材，光刻膠的質量對光刻精度至關重要。光刻膠是指通過紫外光、準分子激 光、電子束、離子束、X 射線等光源的照射或輻射，其溶解度發生變化的刻材料。由于光刻膠具有光化學 敏感性和防腐蝕的保護作用，因此經過曝光、顯影、刻蝕等工藝，可以將微細電路圖形從掩膜版轉移到硅片。雖然光刻膠制造成本低，但是壁壘高，，難以保存。 光刻過程示意圖 ? 光刻膠的主要成分有光刻膠樹脂、感光劑、溶劑和添加劑。光刻膠樹脂是一種惰性的聚合物基質，是用來 將其它材料聚合在一起的粘合劑；光刻膠的粘附性、膠膜厚度等性質都是由樹脂決定的。感光劑是光刻膠的核 心部分，它對光形式的輻射能，是在紫外區光的輻射能會發生反應；曝光時間、光源所發射光線的強度都 和感光劑的性質直接相關。溶劑是光刻膠中容量較大的成分；因為感光劑和添加劑都是固態物質，為了將他們 均勻地涂覆，要將它們加入溶劑進行溶解，形成液態物質，且使之具有的流動性，可以通過旋轉方式涂布 在晶圓表面。添加劑可以用以改變光刻膠的某些性質，如可以通過添加染色劑來光刻膠，使其發生反射。 光刻膠的品種多種多樣，基于感光樹脂的化學結構，按可分為光聚合型、光分解型、光交聯型三種。另外，正性和負性光刻膠是光刻膠的兩個重要品類，光照后形成可溶物質的為正性膠，形成不可溶物質的為負 性膠。由于性能較優，正性光刻膠應用更廣，但由于光刻膠需求量大，負性膠仍有的應用市場。 產品供應： 產品 型號 光源 類型 分辨率 厚度（um) 適用范圍 厚膠 Thick Resist SU-8 GM10xx系列 g/h/i-Line 負性 0.1um 0.1-200 具有較大的高寬比，透明度高，垂直度。 SU-8 Microchem g/h/i-Line 負性 0.5um 0.5-650 具有較大的高寬比，透明度高，垂直度。 ? g/h/i-Line 正性 1um 1—30 可用于選擇性電鍍電鍍，深硅刻蝕等工藝。 NR26-25000P g/h/i-Line 負性 ? 20-130 厚度大，相對容易去膠。 電子束光刻膠 型號 光源 類型 分辨率 厚度（um) 適用范圍 SU-8 GM1010 電子束 負性 100nm 0.1-0.2 可用于做高寬比較大的納米結構。 HSQ 電子束 負性 6nm 30nm~180nm 分辨率較好的光刻膠，抗刻蝕。 XR-1541-002/004/006 HSQ Fox-15/16 電子束 負性 100nm 350nm~810nm 分辨率較好的光刻膠，抗刻蝕。 PMMA(國產) 電子束 正性 \ \ 高分辨率，適用于電子束光刻工藝，較常用的電子束光刻正膠。 PMMA（） 電子束 正性 \ \ MicroChem，分子量，適用于電子束光刻工藝，較常用的電子束光刻正膠。 薄膠 型號 光源 類型 分辨率 厚度（um) 適用范圍 S18xx系列 g-Line 正性 0.5um 0.4-3.5 較常用的薄光刻膠，分辨率高，穩定。 SPR955系列 i-Line 正性 0.35um 0.7-1.6 高分辨率（0.35um）光刻膠，穩定。 BCI-3511 i-Line 正性 0.35um 0.5-2 國產0.35um光刻膠，已經在量產單位規模使用。 NRD6015 248nm 負性 0.2um 0.7-1.3 國產深紫外光刻膠，已經在量產單位規模使用。 Lift off光刻膠 型號 光源 類型 分辨率 厚度（μm) 適用范圍 KXN5735-LO g/h/i-Line 負性 4μm 2.2-5.2 負性光刻膠;倒角65-80°，使用普通正膠顯影液顯影。 LOL2000/3000 g/h/i-Line / NA 130nm-300nm 非感光性樹脂，可以被顯影液溶解，作為lift off雙層膠工藝中底層膠使用。 ROL-7133 g/h/i-Line / 4um 2.8-4 負性光刻膠，倒角75~80°，使用普通正膠顯影液。 光刻膠配套試劑 品名 主要成分 包裝 應用 / / 正膠顯影液 TMAH 2.38% 4LR/PC 正膠顯影液 / / 正膠稀釋劑 PGMEA 4LR/PC 稀釋劑 / / SU8 顯影液 PGMEA 4L/PC 顯影SU8光刻膠 / / RD-HMDS HMDS 500ml/PC 增粘劑 / / OMNICOAT 見MSDS 500ml/PC SU-8增粘劑 / / 上述產品可定制，齊岳生物均可供應！ wyf 01.25 相關目錄： 常用光交聯型光刻膠/光聚合型/光分解型 適用范圍較廣的正性/負性電子束光刻膠

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西安齊岳生物科技有限公司是集化學科研和定制與一體的高科技化學公司。業務范圍包括化學試劑和產品的研發、生產、銷售等。涉及產品為通用試劑的分銷、非通用試劑的定制與研發，涵蓋生物科技、化學品、中間體和化工材料等領域。
主營產品：COF、MOF單體系列：三蝶烯衍生物、金剛烷衍生物、四苯甲烷衍生物、peg、上轉換、石墨烯、光電材料、點擊化學、凝集素、載玻片、蛋白質交聯劑、脂質體、蛋白、多肽、氨基酸、糖化學等。